開催概要

名称 IAP環境技術フォーラム
目的 界面科学における研究・技術の蓄積と動向を若手研究者・技術者・学生に伝える。
対象 若手研究者・技術者・学生・IAP参加者(海外参加者を含む)(約200名)
会場 京都大学時計台記念館
日程 2008年6月1日(日),3日(火)
一般参加費 無料(対象:学生, IAP参加者,その他若手研究者)
主催者 IAP2008国内委員会
協賛企業 ・ インタクト株式会社
・ ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社
・ 大塚電子株式会社
・ DIC株式会社
・ 日科機バイオス株式会社
・ 協和界面科学株式会社
・ シスメックス株式会社
・ 磁気制御技術研究会
・ 武田コロイドテクノ・コンサルティング株式会社
・ 水研化学工業株式会社
・ 三基計装株式会社
・ 株式会社 ガスコイン
フォーラム内容 (1) 技術発表:関連企業の方々に口頭・ポスター発表、製品展示をして頂きます。

(2) 講演会A:[Fundamentals and Frontiers of Environmental Technology]
 工学や環境の視点からコロイド界面科学を広くとらえ、その重要性と面白さをわかりやすく解説して頂きます。

 講演者:国武豊喜
     御園生誠
     東谷公
     金子克美
     山口猛央

(3) 講演会B:IAP基礎講座

 講演者:前田悠
     大島広行
     大井節男
     山中弘次
     足立泰久
スケジュール 6月1日 10:00−12:00 技術発表(会議室U)
    13:00−16:00 講演会A(百周年記念ホール)
6月3日 13:40−16:40 講演会B(国際交流ホールU)
配布物 当日、プログラムや発表要旨をまとめた冊子を配布いたします。